主要功能特點
1.適用范圍廣
  適用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
2.結構先進
   Z軸采用滾珠直進式導軌和可實現硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構，真空吸版，防粘片機構。
3.操作簡便
   X、Y移動、Q轉、Z軸升降采用手動方式；吸版、反吹采用按鈕方式，操作、調試、維護、修理都非常簡便。
4.可靠性高
   采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的零件加工，使本機具有非常高的可靠性。

主要技術指標

◆曝光類型：單面對準雙面一次曝光；
◆曝光面積：≥φ115mm；
◆曝光不均勻性：φ100mm內≤±3%；
◆曝光強度：≥20mw/cm2（365nm; 404nm; 435nm的組合紫外光）；
◆曝光分辨率：≤1μm；
◆曝光模式：雙面同時曝光；
◆對準精度：上版與下版的對準精度≤±3μm；
◆對準范圍：X：±5mm   Y：±5mm；
◆旋轉范圍：Q向旋轉調節≥±5°；
◆最大升降：≥20mm；
◆密著曝光方式：密著曝光可實現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光；
◆顯微系統：雙視場CCD系統，顯微鏡60X～400X連續變倍（物鏡1.5X～10X)
   顯微鏡掃描范圍：X：±40mm ，  Y：±35mm；雙物鏡距離可調范圍：25mm～150 mm，計算機圖像處理系統，19″液晶監視器；
◆掩模版尺寸：3″×3″、4″×4″、5″×5″；
◆基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″；
◆基片厚度：≤5 mm
◆曝光燈功率：直流2×350W；
◆曝光定時：0～999.9秒可調；
◆電源：單相AC220V  50HZ ，功耗≤1.5KW；
◆潔凈壓縮空氣壓力：≥0.4MPa；
◆真空度：-0.07MPa~-0.09MPa；
◆尺寸： 985mm（長）×680mm（寬）×1800mm（高）；
◆重量：約180Kg。