H94-41型6″半自動光刻機
更新：2015/2/6 11:06:53 點擊：
- 品牌： SVC
- 型號： H94-41型
- 市場價： 元
- 優惠價： 元 (已有 0 人購買)
產品介紹
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主要用途 光刻機是光刻工藝過程的重要設備，本機型主要用于中小規模集成電路標準芯片的批量生產。 由于本機采用“蠅眼”式多點光源紫外曝光、三點式自動找平、微“漂移”式接觸分離、電動步進式切斯曼對準、自動裝卸片及自動預對準等先進機構和技術，使得本機具有：精度高、可靠性高、操作維修方便 、生產效率高等特點。 |
技術參數：
1．工作方式：盒到盒自動傳片，一次曝光全自動，套刻曝光半自動，單面曝光；
2．曝光面積：≥φ165mm；
3．曝光不均勻性：≤±3%；
4．曝光強度：≥10mw/cm2；
5．曝光分辨率：1μm；
6．曝光模式：可選擇一次曝光或套刻曝光模式；
7．顯微鏡掃描范圍：X：±40mm Y：±35mm
8．對準范圍：X、Y粗調±3mm，細調±0.3mm ；Q粗調±15°，細調±3°；
9．對準精度：1μm；
10．分離量；0～50μm可調；
11．接觸－分離漂移：≤1μm；
12．曝光方式：密著曝光，可實現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光；
13．找平機構：三點式自動找平；
14．顯微系統：雙視場CCD系統，顯微鏡60X～400X連續變倍（物鏡1.5X～10X），
雙物鏡距離可調范圍：45mm～150 mm，計算機圖像處理系統，19″液晶監視器；
15．掩模版尺寸：5″×5″、6″×6″、7″×7″；
16．基片尺寸：φ4″、φ5″、φ6″；
17．基片厚度：≤5 mm；
18．曝光燈功率：直流350W；
19．曝光定時：0～999.9秒可調；
20．對準方式：電動步進式切斯曼對準機構，節距0.5um；
21．曝光頭轉位：氣動；
22. 生產節拍：14秒+曝光時間+對準時間；
23．電源：單相AC220V 50HZ ，功耗≤1KW；
24．潔凈空氣壓力：≥0.4MPa；
25．真空度：-0.07MPa～-0.09MPa；
26．尺寸： 1300mm（長）×785mm（寬）×1650mm（高）；
27．重量：約240Kg。
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