主要功能特點
1.適用范圍廣
適用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
2.結構先進
Z軸采用滾珠直進式導軌和可實現硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構，真空吸版，防粘片機構。
3.操作簡便
X\Y移動、Q轉、Z軸升降采用手動方式；
吸版、反吹采用按鈕方式，操作、調試、維護、修理都非常簡便。
4.可靠性高
采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的零件加工，使本機具有非常高的可靠性。

主要技術指標
◆曝光類型：單面對準雙面曝光
◆曝光面積：≥φ120mm
◆曝光不均勻性：≤±6%
◆曝光強度：≥5mw/cm2（365nm、404nm、435nm的組合紫外光）
◆曝光分辨率：≤2μm
◆曝光模式：雙面同時曝光
◆對準精度：上版與下版的對準精度≤5μm
◆對準范圍：X:±5mm Y:±5mm
◆旋轉范圍：Q向旋轉調節≥±5°
◆最大升降：≥20mm
◆密著曝光方式：密著曝光可實現硬接觸、 軟接觸和微力接觸曝光；

◆顯微系統：雙視場CCD系統，顯微鏡45X～300X連續變倍(物鏡1.1X～7.5X)，顯微鏡掃
描范圍：X：±40mm， Y：±35mm；雙物鏡距離可調范圍：11mm～100 mm，計算機圖像處理系統，19″液晶監視器；
◆掩模版尺寸：3″×3″、4″×4″、5″×5″
◆基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″
◆基片厚度：≤5 mm
◆曝光燈功率：直流2×200W
◆曝光定時：0～999.9秒可調
◆電源：單相AC 220V 50Hz 功耗≤1kW
◆潔凈壓縮空氣壓力：≥0.4Mpa
◆真空度：-0.07Mpa～-0.09Mpa
◆尺寸： 985×680×1450 (L×W×H)mm；
◆重量：～160kg